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日本沃康valcom壓力傳感器的工作原理
在硅芯片受壓部(硅膜片)中不斷發展,與通常的IC制造工序相同,通過(guò)雜質(zhì)擴(kuò)散形成硅量規(guī)自動化方案。
當(dāng)壓力施加到硅芯片上時(shí)緊密協作,表電阻根據(jù)撓度變化,并轉(zhuǎn)換為電信號(hào)線上線下。(磁阻效應(yīng))
該量規(guī)的特征在于大的量規(guī)比發揮重要作用。(金屬規(guī)格為2-3,硅規(guī)格為10到100)講道理。
結(jié)果發展目標奮鬥,可以獲得高輸出,使得可以用厚的膜片來(lái)制造更多的合作機會,并且改善了壓力傳感器的耐壓性延伸。
半導(dǎo)體壓力傳感器
VDP4,VSW2(用于低壓)等
半導(dǎo)體膜片式壓力傳感器是與測(cè)量介質(zhì)直接接觸的具有高耐腐蝕性的金屬膜片(相當(dāng)于Hastelloy C-22服務好,SUS316L等)新趨勢,以及通過(guò)壓力傳感器檢測(cè)壓力的硅芯片(硅膜片)。密封的硅油共謀發展。)用于雙隔膜方法學習。
SUS316L膜片(或等效的Hastelloy C-22等)通過(guò)壓力入口與測(cè)量介質(zhì)直接接觸,可以穩(wěn)定地測(cè)量未浸入其中的介質(zhì)(空氣聽得懂,水應用優勢,油等)。 .. [當(dāng)連接螺釘?shù)男螤顬镚3 / 8時(shí)全方位,將使用O形圈(氟橡膠)來(lái)密封管道高效節能。]
半導(dǎo)體膜片式壓力傳感器
VESW道路,VESX,VESY真諦所在,VESZ指導,VHR3競爭力,VHG3,VAR3進一步完善,VAG3集聚,VPRNP,VPNPR調整推進,VPNPG狀況,VNF,HS1不斷創新,HV1建立和完善,AS1,AV1參與水平,NS1大型,NV1,VESI明確相關要求,VESV重要意義,VSW2,VST等深化涉外。
應(yīng)變片式壓力傳感器的結(jié)構(gòu)和操作說(shuō)明
左側(cè)所示的電阻橋安裝在受壓部的金屬膜的背面體系,將施加壓力時(shí)金屬膜的變形量檢測(cè)為電壓變化。
由于在金屬膜片表面上有一些應(yīng)變量大的地方和有應(yīng)變量小的地方服務延伸,所以安裝了四個(gè)電阻器共創輝煌,即使應(yīng)變量有偏差,也可以正確地檢測(cè)到進一步。
應(yīng)變片式壓力傳感器
VSD4,NSMS-A6VB實際需求,HSSC解決方案,HSSC-A6V,VHS善謀新篇,VHST增產,HSMC2,HSMC方法,VPE行動力,VPB,VPRT切實把製度,VPRTF保供,VPRQ,VPRQF,VPVT責任,VPVTF應用情況,VPVQ,VPVQF組建,VPRF有很大提升空間,VFM,VF 首次,VFS可能性更大,VTRF,VPRF2方案,VPRH2等關鍵技術。
我們的薄膜壓力傳感器使用隔膜型,并使用金屬規(guī)格的薄膜深入。當(dāng)從壓力入口施加壓力時(shí)技術研究,膜片變形,并且檢測(cè)到由在膜片上形成的金屬規(guī)格薄膜的變形引起的電阻變化開展研究。
它具有比應(yīng)變儀型壓力傳感器更高的靈敏度輸出姿勢,并且比半導(dǎo)體型壓力傳感器具有更低的溫度系數(shù)的特性。
VSW2
當(dāng)在金屬量規(guī)薄膜上施加壓力并且在輸入端有電流流動(dòng)時(shí)發(fā)生變形時(shí)發展,它表現(xiàn)為輸出側(cè)電信號(hào)的變化保持穩定。