光學(xué)膜厚儀OMD-1000的運(yùn)用范圍

典型應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體制造業(yè)逐漸完善，光刻膠、氧化物發展契機、硅或其他半導(dǎo)體膜層的厚度測(cè)量廣泛關註。

生物醫(yī)學(xué)原件：聚合物/聚對(duì)二甲苯；生物膜/球囊壁厚度流動性；植入藥物涂層。

微電子：光刻膠競爭激烈；硅膜持續創新；氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡                       

液晶顯示器：盒厚；聚酰亞胺空白區；導(dǎo)電透明膜

由于是光學(xué)測(cè)量協調機製，在測(cè)量時(shí)候無須擔(dān)心破壞樣品，讓用戶簡(jiǎn)單快速地測(cè)量薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)形勢，通過對(duì)待測(cè)膜層的上下界面間反射光譜的分析實踐者，幾秒鐘內(nèi)就可測(cè)量結(jié)果。

這是一種光譜膜厚監(jiān)測(cè)儀約定管轄，可監(jiān)測(cè)在氣相沉積過程中用單色光在基板上產(chǎn)生的光量變化數據。它也用在我們自己的薄膜沉積設(shè)備中，并作為膜厚監(jiān)測(cè)設(shè)備完成發揮，該設(shè)備具有氣相沉積零件制造商的專業(yè)知識(shí)顯著。

全波長(zhǎng)范圍

特征

產(chǎn)品規(guī)格