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日本紅外光的非接觸式厚度測(cè)量技術(shù)的特點(diǎn)

發(fā)布時(shí)間:2022-06-29 點(diǎn)擊量:1045

日本紅外光的非接觸式厚度測(cè)量技術(shù)的特點(diǎn)

紅外線穿過(guò)特定的物質(zhì)。

它是一種利用該特性以非接觸方式測(cè)量特定物質(zhì)厚度的技術(shù)導向作用。

由于電子設(shè)備中使用的硅智慧與合力、藍(lán)寶石、石英和其他化合物的表面經(jīng)過(guò)高精度拋光可持續,因此不能使用接觸式厚度測(cè)量措施,因?yàn)樗鼤?huì)劃傷表面。

此外情況,由于材料變形,無(wú)法通過(guò)接觸式準(zhǔn)確測(cè)量橡膠、薄膜堅持好、軟樹(shù)脂等的厚度開放要求。

激光和電容是以非接觸方式測(cè)量厚度的常用方法,但它們是位移計(jì)構建,不能測(cè)量絕對(duì)值緊密相關。絕對(duì)值可以通過(guò)我們的紅外光法測(cè)量。


紅外光測(cè)厚原理

當(dāng)紅外光投射到工件上時(shí)應用前景,它首先在表面上反射指導。
此外,紅外光通過(guò)工件內(nèi)部并在背面反射兩個角度入手。
表面反射光和背面反射光被光學(xué)探頭接收關註點,利用前后表面反射光的時(shí)間差作為光干涉差來(lái)測(cè)量厚度。

 

可以在多層中進(jìn)行單獨(dú)的厚度測(cè)量

 

從這個(gè)原理來(lái)看進入當下,在如上圖所示的多層工件的情況下建強保護,可以從每個(gè)反射光的干涉差來(lái)測(cè)量單個(gè)厚度。

 

 

以上是PC上顯示反射光干涉狀態(tài)的界面首次。
從波形的左邊看流動性,它變成了R1到R4的干擾波效高化。每個(gè)干涉差(Peak to Peak)是每一層的厚度。

絕對(duì)值測(cè)量的優(yōu)點(diǎn)

 

《相對(duì)值的測(cè)量》

位移傳感器是一種相對(duì)值測(cè)量反應能力,將距離差作為厚度測(cè)量統籌推進。因此,有必要準(zhǔn)備一個(gè)參考平面(零點(diǎn))進行培訓。
此外科普活動,如果到參考平面的距離 (Gs) 并不總是恒定的,則會(huì)出現(xiàn)錯(cuò)誤關鍵技術。如果不能保持或隨時(shí)間變化逐漸完善,則必須為每次測(cè)量重新設(shè)置零點(diǎn)。

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由于紅外光的測(cè)量是通過(guò)從正面和背面反射光的干涉差異獲得的有所提升,因此只需將工件放在傳感器頭下方即可測(cè)量厚度的絕對(duì)值了解情況。
即使到工件的距離(Ga)有輕微波動(dòng),如果范圍小于最大測(cè)量厚度(約4毫米)-工件厚度(t)法治力量,測(cè)量值和精度也不會(huì)受到影響長期間。

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☆ 如果是允許紅外光通過(guò)的物質(zhì),可以在不使材料變形的情況下測(cè)量厚度技術研究。

☆ 可測(cè)量厚度絕對(duì)值

☆ 可進(jìn)行多層測(cè)量

☆ 測(cè)量距離可任意設(shè)置是目前主流,最大可達(dá)1000mm左右,可保持0.1μm的測(cè)量精度現場。




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