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18922517093日本funatech紫外線運用設(shè)備介紹
UV氧化設(shè)備主要用于超純水生產(chǎn)設(shè)備將進一步。在近年來小型化的半導(dǎo)體、晶片提供有力支撐、液晶面板等的制造中實際需求，為了保持高成品率，去除水中的TOC（有機物）等雜質(zhì)的超純水盡可能是必需的發展成就。
紫外線氧化裝置是與后段離子交換樹脂一起生產(chǎn)超純水*的裝置性能，被許多電子廠采用。
■ 典型分子的化學(xué)結(jié)合能
■ 主波長能量
■ 分解型
它是一種有效地照射由大功率低壓汞燈產(chǎn)生的真空紫外線（184.9 nm）并氧化分解水中有機物的裝置優勢。適用于將 TOC 降低 ppb 級設計。
* 型號將根據(jù)安裝空間、處理量和所需的 TOC 濃度進行選擇品率。
近年來善謀新篇，臭氧水由于具有很強的氧化能力，被廣泛用作半導(dǎo)體廠和液晶廠的清洗水。但是組建，使用后的有害臭氧水即使?jié)舛鹊鸵矊θ梭w有害用的舒心，對設(shè)備造成很大的負擔(dān)結構，例如配管內(nèi)的填料劣化深入交流研討，因此需要迅速分解。OR系列可在短時間內(nèi)將高濃度臭氧水分解至1ppm以下效果較好。它還可以有效降低運行成本和維護頻率集聚效應。
■ 使用示例
它可以用作活性炭吸附的替代品。
也可提供高濃度廣泛應用、高流量設(shè)備提升。
我們有很多拆機記錄。
* 機型將根據(jù)處理量和臭氧濃度進行選擇情況。
它是一種通過低壓汞燈發(fā)出的真空紫外線（184.9 nm）將氧（O3）臭氧化的裝置。
由于不產(chǎn)生氮氧化物，因此很容易產(chǎn)生清潔的臭氧綠色化，不會產(chǎn)生對人體有不利影響的光化學(xué)煙霧或空氣污染設計，如喉嚨和氣管。
臭氧產(chǎn)生量：0.1-2.0 g/h
體積小巧緊湊至關重要。
它消耗更少的電力并且維護成本更低主動性。
