日本金屬表面鍍膜裝置MSP-1S介紹

該設(shè)備是用于SEM觀察的貴金屬薄膜鍍膜設(shè)備。它是一種執(zhí)行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生效率的設(shè)備至關重要。除了通過磁控管靶電極進(jìn)行低壓放電外著力提升，樣品臺制成浮動式，以減少由于電子束流入造成的樣品損壞建設項目。操作簡單動手能力，按一下按鈕，沒有技巧傳遞。它很小充分，不占用空間。在桌子的角落里很有用的發生。

工作原理:

采用了一個平板控制電極帶來全新智能，通過低電壓放電進(jìn)行磁控濺射的噴鍍。

MSP-IS鍍金機(jī) 鍍膜儀產(chǎn)品優(yōu)勢:

●起弧電壓低有效減弱樣品受到的離子損傷和熱損傷更加堅強。

●可移動式樣品臺:工作時提供有力支撐，樣品溫升小，能有效防止由于離子濺射而產(chǎn)生的樣品變形配套設備。

●內(nèi)置真空泵發展成就，一體式設(shè)計(jì)

●MSP-IS是-一臺只要啟動“EVAC" 按鈕，就可以全自動完成噴涂的設(shè)備建議。

操作方法:

將樣品放入樣品室優勢，根據(jù)鍍層厚度需求設(shè)置噴鍍時間，按下啟動按鈕后，從預(yù)抽氣到噴鍍整個過程都將自動進(jìn)行品率，噴鍍結(jié)束后旋轉(zhuǎn)泵自動終止善謀新篇，樣品室內(nèi)充入空氣后即可取出樣品

技術(shù)參數(shù)

真空系統(tǒng): 抽速20L/min,旋轉(zhuǎn)泵最高可抽到2Pa

樣品室真空度: 在濺射時的真空度保持6-8Pa

靶和樣品的距離: 標(biāo)準(zhǔn)25 mm,也可以調(diào)整輔助平臺，增大距離至35 mm

樣品室尺寸: 高65 mm,直徑120 mm,由耐熱玻璃制成

靶材尺寸: 直徑55 mm

靶材種類: 標(biāo)配金.鈀開展面對面，可選配金供給、鉑、金.鈀合金便利性、鉑

樣品臺: 直徑50 mm拓展應用。與陽極分離的可移動式樣品臺

設(shè)備尺寸: 長200mmX寬340mmX高350 mm。重量: 14 Kg

電源: 100V單相交流電實事求是，最大電流為10A