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半導(dǎo)體制造行業(yè)工藝之一-光刻黃光NLT3系列介紹
光刻是半導(dǎo)體制造過程中不可少的工藝之一形勢。
晶圓被光刻膠，然后進(jìn)行蝕刻和摻雜過程取得明顯成效。
NLT3-591nm系列以光刻膠不反應(yīng)的波長發(fā)光約定管轄，使其適用于光刻前后工藝中的設(shè)備照明，這是一種半導(dǎo)體制造工藝創新的技術。
半導(dǎo)體設(shè)備照明發揮、IC工廠照明、潔凈室就此掀開、黃室等
| 發(fā)光二極管波長 | 591納米 |
|---|---|
| 預(yù)期壽命 | 工作溫度 40°C 40長足發展，000 小時(shí) * 壽命是照度為初始照度的 70% 時(shí) |
| 工作溫度 | -10°C~40°C（但不凍結(jié)） |
| 防護(hù)等級 | IP65 防護(hù)等級 |
| 電源線 | 3 米 （AWG26x2C） |
| 選擇 | 安裝磁鐵 （ND-P03） |
|---|---|
| 型 | 繪圖 | 總光通量 | 照度（1米） | 權(quán)力 | 功耗 |
|---|---|---|---|---|---|
| NLT3-10-直流-S（591納米） | 300 流明 | 80 lx | 直流24V | 3.8瓦 | |
| NLT3-20-直流-S（591納米） | 穩步前行。.PDF | 610 流明 | 160 lx | 8W | |
| NLT3-30-直流-S（591納米） | 結構不合理。.PDF | 930 流明 | 230 lx | 12W | |
| NLT3-40-直流-S（591納米） | 1逐步改善，240 流明 | 310 lx | 16W |
