hamanano靜電點(diǎn)膠/圖案化技術(shù)（靜電噴墨）

• 高粘性材料的圖案化成為可能！

  　我們的靜電點(diǎn)膠技術(shù)可實(shí)現(xiàn) pL 至 fL 級(jí)的微點(diǎn)膠，而這在傳統(tǒng)方法（噴墨等）中是很難實(shí)現(xiàn)的十大行動。它還可以應(yīng)用于樹脂和甘油等高粘度樣品重要性，這些樣品迄今為止無法制成細(xì)小液滴。此外體系，它不僅可以應(yīng)用于導(dǎo)電材料，還可以應(yīng)用于玻璃等絕緣基板背景下。

  　通過結(jié)合靜電點(diǎn)膠技術(shù)和 XY 移動(dòng)平臺(tái)多種場景，可以對(duì)各種微滴進(jìn)行圖案化。配備“橫向靜電點(diǎn)膠/圖案化裝置"穩定，可以在觀察從噴嘴前端到工件的靜電吸力的同時(shí)確定液滴形成條件機製性梗阻，以及落射照明顯微鏡，我們可以滿足客戶的需求廣泛關註。各種各樣的變化改造層面，包括“外延觀察圖案形成裝置"機製，該裝置將液滴直接滴到可見區(qū)域上，同時(shí)從基板上方實(shí)時(shí)觀察它們大面積。僅對(duì)于側(cè)式靜電點(diǎn)膠/圖案設(shè)備發力，可以選配可控制滴注環(huán)境溫度和濕度的外部腔室。

• 應(yīng)用示例：

  ● 可印刷電子產(chǎn)品（包括3D）集成應用、線路修復(fù)越來越重要的位置、化學(xué)傳感器制造、小零件的樹脂密封

  ● 提供局部電氣絕緣迎來新的篇章、3D 器件原型制作解決方案、功能圖案原型制作、局部化學(xué)鍍

  ● 抗蝕劑材料的局部涂敷共同學習、生物芯片的制造交流研討、發(fā)光面及發(fā)電面的輔助布線、透鏡的遮光部的形成。

  ● 接收天線的制造順滑地配合、將試劑局部應(yīng)用于生物組織、納米線的制造空白區、點(diǎn)圖案的形成等貢獻法治。

• 相關(guān)產(chǎn)品

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  側(cè)面觀察式靜電點(diǎn)膠圖案化裝置

  (ODS-P系列）

  落射照明觀察式靜電點(diǎn)膠制圖裝置

  （QDX系列）