hamanano靜電點(diǎn)膠/圖案化技術(shù)（靜電噴墨）

• 高粘性材料的圖案化成為可能敢於監督！

  　我們的靜電點(diǎn)膠技術(shù)可實(shí)現(xiàn) pL 至 fL 級(jí)的微點(diǎn)膠，而這在傳統(tǒng)方法（噴墨等）中是很難實(shí)現(xiàn)的結構。它還可以應(yīng)用于樹脂和甘油等高粘度樣品重要的作用，這些樣品迄今為止無法制成細(xì)小液滴。此外規模最大，它不僅可以應(yīng)用于導(dǎo)電材料穩中求進，還可以應(yīng)用于玻璃等絕緣基板。

  　通過結(jié)合靜電點(diǎn)膠技術(shù)和 XY 移動(dòng)平臺(tái)最深厚的底氣，可以對(duì)各種微滴進(jìn)行圖案化協同控製。配備“橫向靜電點(diǎn)膠/圖案化裝置"，可以在觀察從噴嘴前端到工件的靜電吸力的同時(shí)確定液滴形成條件品質，以及落射照明顯微鏡利用好，我們可以滿足客戶的需求。各種各樣的變化解決問題，包括“外延觀察圖案形成裝置"系列，該裝置將液滴直接滴到可見區(qū)域上，同時(shí)從基板上方實(shí)時(shí)觀察它們環境。僅對(duì)于側(cè)式靜電點(diǎn)膠/圖案設(shè)備空間載體，可以選配可控制滴注環(huán)境溫度和濕度的外部腔室。

• 應(yīng)用示例：

  ● 可印刷電子產(chǎn)品（包括3D）相對簡便、線路修復(fù)重要組成部分、化學(xué)傳感器制造、小零件的樹脂密封

  ● 提供局部電氣絕緣表現、3D 器件原型制作特點、功能圖案原型制作、局部化學(xué)鍍

  ● 抗蝕劑材料的局部涂敷結論、生物芯片的制造和諧共生、發(fā)光面及發(fā)電面的輔助布線、透鏡的遮光部的形成。

  ● 接收天線的制造技術交流、將試劑局部應(yīng)用于生物組織先進的解決方案、納米線的制造、點(diǎn)圖案的形成等創造更多。

• 相關(guān)產(chǎn)品

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  側(cè)面觀察式靜電點(diǎn)膠圖案化裝置

  (ODS-P系列）

  落射照明觀察式靜電點(diǎn)膠制圖裝置

  （QDX系列）