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日本uv-asumi準(zhǔn)分子輻照裝置介紹

發(fā)布時(shí)間：2024-06-18　點(diǎn)擊量：1065

日本uv-asumi準(zhǔn)分子輻照裝置介紹

準(zhǔn)分子燈利用充滿稀有氣體的燈內(nèi)產(chǎn)生的放電等離子體產(chǎn)生的光（準(zhǔn)分子光）薄弱點。

主要波長為126nm（Ar 2 *）覆蓋範圍、146nm（Kr 2 *）、172nm（Xe 2 *）重要性、222nm（KrCl *）和308nm（XeCl * ）又進了一步。

我們使用Hamamatsu Photonics Co., Ltd.生產(chǎn)的Xe 2主波長為172 nm的燈單元，并提供表面改性和親水處理（改善潤濕性）的設(shè)備多元化服務體系。

準(zhǔn)分子燈的特點(diǎn)

  • 通過使用平板燈規劃，可以實(shí)現(xiàn)大面積的均勻照射。

  • 采用RF（射頻）深度，輸出穩(wěn)定帶動擴大，閃爍少

  • 172nm 的單一波長可實(shí)現(xiàn)更高效的準(zhǔn)分子輻照加工。

  • 可以立即打開和關(guān)閉

準(zhǔn)分子照射治療的特點(diǎn)

  • 與電暈放電和等離子方法直接對工件進(jìn)行放電不同開拓創新，準(zhǔn)分子照射僅照射真空紫外線持續發展，因此對工件幾乎不會造成損壞。

  • 與因電極濺射而產(chǎn)生灰塵的電暈放電法和等離子法不同促進善治，可以進(jìn)行清潔加工擴大。

  • 準(zhǔn)分子照射使用平板燈發(fā)出的光，因此不存在加工不均勻的情況實事求是。

準(zhǔn)分子燈


波長172nm準(zhǔn)分子光的能量

光的波長越短進行探討，它的能量就越高落到實處。使用氙 (Xe) 的準(zhǔn)分子燈具有 172nm 的主波長和 698kJ/mol (7.23eV) 的高能量服務水平。利用這種高能量最新，它可用于特氟龍等難以使用低壓汞燈對其表面進(jìn)行改性的材料。

準(zhǔn)分子光的能量比較

研發(fā)用掃描準(zhǔn)分子輻照裝置

準(zhǔn)分子輻照裝置

該裝置集成了主波長為172nm的準(zhǔn)分子照射裝置處理方法、掃描臺和臭氧分解裝置重要作用，僅使用100V電源即可輕松安全地進(jìn)行準(zhǔn)分子表面改性實(shí)驗(yàn)。

掃描階段允許處理比以前更大的區(qū)域習慣。集成臭氧分解裝置充足，無需排氣設(shè)備等。

準(zhǔn)分子照射裝置定制示例

準(zhǔn)分子照射裝置定制示例

這是照射寬度為400mm的準(zhǔn)分子照射單元的掃描型照射裝置的積極性。
最大工作尺寸為 400 x 800 毫米綠色化發展。

使用準(zhǔn)分子照射設(shè)備進(jìn)行改性的示例

準(zhǔn)分子修飾的圖像