nittadupont化合物半導(dǎo)體拋光耗材介紹

化合物半導(dǎo)體具有比硅更快的電子傳輸速度優化程度、高速信號(hào)處理和低電壓等性能積極性，已發(fā)展成為日常生活中廣泛應(yīng)用的重要技術(shù)。我們擁有穩(wěn)定實(shí)現(xiàn)高平坦度不斷豐富、低缺陷率和高生產(chǎn)率等優(yōu)異拋光性能的產(chǎn)品陣容實施體系。

復(fù)合晶圓用拋光墊

蘇巴™系列

Suba™ 是一種基于無紡布的拋光墊，有助于在復(fù)合拋光中實(shí)現(xiàn)高拋光速率創新的技術、高平整度和低缺陷率發揮。支持GaAs、InP快速增長、LiTaO3、LiNbO3等多種應(yīng)用占。

MH™系列 / EXTERION™系列

MH™墊是一種采用的泡沫控制技術(shù)制成的聚氨酯墊高質量，可實(shí)現(xiàn)高平整度和長(zhǎng)使用壽命。EXTERION™ 拋光墊定位為下一代 MH™ 拋光墊激發創作，有助于提高晶圓制造工藝等各種應(yīng)用的質(zhì)量前景。

復(fù)合晶圓拋光漿料

Machplaner™ MS 系列

在拋光藍(lán)寶石等化合物或 LiTaO3 和 LiNbO3 等氧化物基材時(shí)，Machplaner™ MS 系列通過磨粒的最佳混合實(shí)現(xiàn)高拋光速率和高表面質(zhì)量重要作用。