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熱顯微鏡TM3對薄膜熱射流率的測試分析

發(fā)布時間:2024-12-16 點擊量:797

熱顯微鏡TM3對薄膜熱射流率的測試分析

隨著電子及微電子器件日益呈現(xiàn)小型化、薄型化和多功能集成化的發(fā)展特點問題,電子產(chǎn)品的運行功率和布線密度大幅增加逐漸顯現,使得電子元器件、集成電路在單位體積內產(chǎn)生的熱量急劇上升系統穩定性。由此引起的熱堆積現(xiàn)象愈發(fā)嚴重拓展基地,導致電路傳輸信號的互連延遲、串擾并造成顯著能耗實力增強,嚴重影響電子器件的壽命和性能穩(wěn)定性體系流動性。為及時將熱量散出,除采用冷凍法帶來全新智能、水循環(huán)冷卻等外部方法外實現了超越,提升電路基板或電子封裝用聚合物絕緣薄膜材料的導熱能力是一種可以從根本上解決散熱問題的有效方法。因此去完善,開發(fā)兼具優(yōu)異絕緣性和導熱性的聚合物薄膜材料已成為國內外研究及應用的熱點橋梁作用。

聚酰亞胺(PI)是一類廣泛應用于電氣、電子求索、微電子等領域的重要絕緣材料讓人糾結,具有優(yōu)異的耐熱、力學穩定發展、絕緣管理、耐化學穩(wěn)定性等綜合性能。然而能力建設,傳統(tǒng)聚酰亞胺薄膜的導熱能力較低模樣,本征導熱系數(shù)僅為0.1~0.2 W/(m·K)生產體系,無法滿足先進集成電路及微電子器件的快速散熱要求,極大限制了聚酰亞胺薄膜材料在光電領域更廣泛的應用狀態。

用于測量薄膜和微區(qū)域的熱射流率

熱顯微鏡TM3

特征

  • 熱物性顯微鏡是測量熱射流率的裝置技術節能,熱射流率是熱物性值之一。

  • 這是一種可以測量樣品的點廣泛認同、線國際要求、面熱物理性質的裝置。

  • 還可以測量微米級的熱物理性質值的分布鍛造,這在傳統(tǒng)的熱物理性質測量設備中被認為是困難的競爭激烈。

  • 這是一個能夠對熱物理特性進行非接觸式高分辨率測量的設備。

  • 檢測光斑直徑為3μm改善,可以高分辨率測量微小區(qū)域的熱物理性質(點空白區、線、面測量)信息化。

  • 由于可以在不同深度進行測量形勢,因此可以測量從薄膜、多層膜到散裝材料的所有材料取得明顯成效。

  • 也可以測量基材上的樣品約定管轄。

  • 使用激光的非接觸式測量。

  • 可以檢測薄膜下的裂紋創新的技術、空隙和剝落發揮。

熱物性顯微鏡測量原理(概述)

金屬薄膜沉積在樣品上,并使用加熱激光定期加熱快速增長。

  1. 金屬的反射率具有根據(jù)表面溫度而變化的特性(熱阻法)開放以來,因此我們可以通過捕捉與加熱激光同軸照射的檢測激光的反射強度的變化來測量表面的相對溫度變化。我會穩步前行。

  2. 熱量從金屬薄膜傳播到樣品結構不合理,導致表面溫度響應出現(xiàn)相位滯后。該相位延遲根據(jù)樣品的熱特性而變化逐步改善。通過測量該加熱光和檢測光之間的相位延遲來確定熱射流率意見征詢。

熱物性顯微鏡測量原理(概述)

主要規(guī)格

名稱/產(chǎn)品名稱熱物性顯微鏡/熱顯微鏡
測量模式熱物性分布測量(一維/二維/1點)
測量項目熱射流率,(熱擴散率)大大提高,(導熱率)
檢測光斑直徑約3μm
1點測量標準時間10秒
待測薄膜厚度:數(shù)百nm至數(shù)十μm
重復性Pyrex 和硅的熱射流率小于±10%
樣本1. 樣品架30mm x 30mm的必然要求,厚度5mm
2. 板狀樣品30mm x 30mm以下,厚度3mm以下
  • 樣品表面需進行鏡面拋光取得了一定進展。

  • 樣品表面需要進行鉬濺射應用擴展。

工作溫度范圍24℃±1℃(根據(jù)設備內置溫度傳感器)
載物臺行程距離?X軸方向20mm
?Y軸方向20mm
?Z軸方向10mm
加熱激光半導體激光波長:808nm
檢測激光半導體激光波長:658nm
電源交流100V 1.5kVA
標準配件樣品架、參考樣品
選項光學平臺增多、空調活動上、空調房有望、濺射設備
  • 性能和外觀如有改進,恕不另行通知導向作用。