半導(dǎo)體通過活化、電子行業(yè)噴涂用二流體噴嘴的要求

工業(yè)噴霧噴嘴在電子行業(yè)有著廣泛的應(yīng)用，可應(yīng)用于半導(dǎo)體制造過程支撐作用，硅晶片制造工序研學體驗，等離子體顯示器制造、電子顯像管最為突出、以及印制電路板的制作（PCB）中落實落細，顯影、蝕刻高效化、沖刷製高點項目、除膜、噴涂等眾多工序範圍和領域。同時還能用于消除靜電有所增加，保障電子行業(yè)生產(chǎn)順利進行，是電子行業(yè)中不可缺重要裝置更高要求。

光刻膠越來越重要的位置，是一種對光敏感的化學(xué)物質(zhì)。它是由光敏樹脂共同學習、增感劑順滑地配合、溶劑三種主要成分組成。經(jīng)曝光之后效高，膠會產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)前沿技術，從而導(dǎo)致溶解度發(fā)生變化。利用這種性質(zhì)性能，通過帶有特定圖形的掩膜就可以在基板上得到特定的圖形多種方式。我們首先將光刻膠涂覆到半導(dǎo)體材料上，經(jīng)過曝光顯影后技術創新，留下的光刻膠部分相當于對底層進行保護深入交流研討，之后用蝕刻劑進行蝕刻，最終達到將掩膜版上特定的微細圖形轉(zhuǎn)移到襯底上的目的廣泛應用，因此光刻膠是微細加工技術(shù)中的關(guān)鍵性材料需求。

如何將光刻膠均勻且符合工藝要求的涂覆到襯底表面，也是非常關(guān)鍵的課題更優質。目前涂覆工藝有旋涂相對開放、浸涂以及超聲波噴涂等工藝。旋涂脫穎而出，也就是離心旋轉(zhuǎn)法拓展應用，是將一定量的光刻膠溶液滴在基材表面，隨后通過離心力的作用將膠鋪展到基片上結構，此種方法可以得到厚度均勻的光刻膠薄膜，但普遍存在膜厚偏薄且厚度范圍調(diào)節(jié)不穩(wěn)定的問題。而且采用離心旋轉(zhuǎn)法涂膠發揮作用，在旋轉(zhuǎn)過程中基片上多余的光刻膠被甩出，造成光刻膠浪費生產體系。而浸涂法，雖然操作方便效率高且涂料利用率也比較高很重要，但只適用于形狀簡單的流線型材料能力和水平，而且涂料量不好控制。

Atmax噴嘴是獲得的“外混合渦流式緊湊型精密二流體噴嘴"異常狀況，非常適合霧化液體研究。
高速旋流將液體高效粉碎霧化成霧化噴霧。液滴尺寸分布也非常好應用創新。噴嘴內(nèi)部結(jié)構(gòu)非常簡單提高，大直徑可以穩(wěn)定連續(xù)噴射，不會堵塞的特性。為了獲得霧化液體交流，人們一直認為液體應(yīng)該通過微小的孔噴射出來，但Atmax噴嘴是一個源自想法的原創(chuàng)產(chǎn)品提供堅實支撐。

技術(shù)/結(jié)構(gòu)簡單即使使用高粘度和漿料也不會堵塞

• 還可以噴涂以前難以霧化的粘性液體推進一步、漿料和乳液。

• 由于是外置混合噴嘴簡單化，因此噴嘴內(nèi)部不存在液體堵塞的可能性。

• 液體流路具有簡單的直線結(jié)構(gòu)明確了方向。

• 與傳統(tǒng)噴嘴相比系統性，噴霧孔徑更大（約10至200倍）。

• 即使在低壓下也能進行噴霧操作單產提升，因此不會滴落或滴落傳遞。

高性能/高功能可噴射 細顆粒噴霧（5μm）

• 即使噴射直徑很大，也可以噴射出細小的顆粒今年。渦流霧化提供非常均勻的顆粒尺寸穩步前行。

• 可以用單個噴嘴控制噴射的顆粒從相當于5微米到雨滴大小。

• 該噴嘴也非常適合多種液體的混合噴涂動手能力。液體供應(yīng)通過管道分別輸送到噴嘴附近逐步改善，從而可以在噴嘴噴射部分進行混合噴射。當由于液體的性質(zhì)而無法預(yù)先攪拌和混合時提升，它是有效的大大提高。

• 由于部件配置簡單，噴嘴可以根據(jù)使用環(huán)境和耐化學(xué)性采用特殊材料制造研究成果。我們可以選擇和制造耐熱取得了一定進展、耐腐蝕完善好、耐磨材料。

• 由于單噴嘴的噴射控制自由度較大積極參與，因此噴射條件的設(shè)定相對容易問題分析。通過控制供應(yīng)的液體量和霧化氣體的流速，可以實現(xiàn)所需的噴射設(shè)置交流研討。

小巧輕便可以安裝在任何地方更加完善、用于任何目的

• 噴嘴尺寸極小，因此可以安裝在任何地方相對較高。

• 由于重量輕資源配置，因此可以輕松安裝在設(shè)備中。噴嘴可以使用注射口附近的安裝螺釘和螺母固定相關。

優(yōu)異的維護性僅 2 個組件

• 只有兩個部件大力發展，因此易于安裝和拆卸，維護簡單生產效率。

優(yōu)異的節(jié)能性能技術(shù)實現(xiàn)高效噴涂

• 我們的技術(shù)可實現(xiàn)高效的霧化噴涂產能提升。與傳統(tǒng)噴嘴相比，霧化消耗的壓縮氣體更少節點。

• 由于噴嘴具有自吸功能通過活化，無需泵即可噴射低粘度液體。

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