日本krosaki真空吸盤集聚、靜電吸盤的推薦
靜電吸盤
靜電吸盤用于在半導(dǎo)體制造的真空工藝中固定高效化、運輸和校直晶圓。
我們的Johnsen-Rahbek型靜電吸盤因其的材料技術(shù)和加工技術(shù)而受到好評。
特征
出色的附著/分離響應(yīng)能力
通過優(yōu)化材料結(jié)構(gòu)規劃，表現(xiàn)出極其優(yōu)異的附著/分離響應(yīng)關規定。
這有助于顯著提高吞吐量。
優(yōu)異的平整度
我們的拋光技術(shù)可在整個表面上提供高精度的平整度應用前景。
此外指導，還可實現(xiàn)優(yōu)異的表面粗糙度，從而實現(xiàn)高吸附能力并減少顆粒量兩個角度入手。
高耐用性
由于電介質(zhì)關註點、內(nèi)部電極和絕緣體作為一個整體進行燒制，因此與使用粘合劑集成的靜電吸盤相比進入當下，它具有長期穩(wěn)定性系統。
物性表
| 材料 |
| Al 2 O 3 (添加TiO 2 ) |
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| 比重 | - | 3.98 |
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| 楊氏模量 | GPa | 400 |
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| 泊松比 | - | 0.24 |
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| 斷裂韌性值 | 兆帕·米1/2 | 4.6 |
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| 維氏硬度 | 98N,GPa | 14 |
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| 相對介電常數(shù) | - | 10.7 |
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*所列數(shù)據(jù)為典型值，并非保證值積極影響。
產(chǎn)品數(shù)據(jù)（參考值）
*所列數(shù)據(jù)為典型值，并非保證值進一步提升。
真空吸盤
利用多孔陶瓷特性的真空吸盤進行探討。
多孔陶瓷是具有從內(nèi)部到表面連續(xù)連通的孔（連通孔）的陶瓷，就像海綿一樣提供有力支撐。
還有各種其他名稱管理，如真空吸盤、真空吸盤越來越重要、吸盤等切實把製度，但通過在吸附表面上產(chǎn)生真空，將被吸附的物體保持在大氣壓力下并固定（吸盤））相同改革創新。該原理適用于吸盤之類的東西最新。
以前，通過加工凹槽和孔來形成空氣通道來吸附空氣最深厚的底氣，但薄膜等薄的吸附材料存在被吸入凹槽和孔中并變形等問題敢於挑戰。另一方面，多孔陶瓷具有遍布整個表面的微米級孔應用擴展，可以均勻地吸附被吸附材料而不使其變形過程中。
我們的真空吸盤可以從材料到加工以一體化方式制造，并且我們有多種選擇建立和完善。
多孔吸盤
利用多孔陶瓷的特性特征更加明顯，可以無偏壓地均勻吸附并固定整個物體（薄膜、基板啟用、晶圓等）。
只要處于大氣壓下估算，無論磁性還是非磁性，都有可能吸引磁鐵達到。
適用于固定薄膜產(chǎn)品深入各系統，例如薄半導(dǎo)體器件、固定 3D 內(nèi)存基板的可能性、固定薄膜/膠片以及倒裝芯片接合機的吸附臺進一步推進。
局部吸臺AH吸盤
該吸盤采用特殊材料多孔陶瓷（AH材料），可實現(xiàn)局部吸力服務品質。
單臺可拾取8英寸傳遞、12英寸等不同尺寸的工件。
普通的多孔吸盤必須覆蓋整個表面才能固定過程，因為吸盤表面將因泄漏而不再是真空的發生，但AH吸盤采用孔徑和孔隙率受控的材料，可以防止從開放部分泄漏進一步完善∠嘟Y合？梢赃M行固定以抑制壓力并保持真空狀態(tài)。
它可用于多種用途表現明顯更佳，例如用于干處理的抽吸臺和用于檢查不規(guī)則形狀物體的固定臺更加廣闊。
產(chǎn)品陣容/技術(shù)介紹
陣容
| 產(chǎn)品名稱 | 平均孔徑 [μm] | 孔隙率[%] |
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| MP580 | 第580章 | 45～50 |
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| MP230 | 230 | 45～50 |
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| MP130 | 130 | 45～50 |
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| MP100 | 100 | 45～50 |
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| MP060 | 60 | 45～50 |
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| MP040 | 40 | 45～50 |
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| 電導(dǎo)率 | 二十五 | 15-18日 |
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| 啊 | 2 | 30～35 |
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*所列數(shù)據(jù)為典型值，并非保證值技術節能。
高精度多孔吸盤
《粘合面SEM照片》
?與將金屬（SUS或鋁）底座粘合到多孔陶瓷上的標(biāo)準產(chǎn)品不同，我們使用輕質(zhì)（密度3.9g/cm 3）和高剛性的氧化鋁陶瓷作為底座，使吸盤更易于使用認為。提高各種尺寸精度。
- φ300尺寸可適應(yīng)3μm以下的平面平行度國際要求。
?與金屬真空吸盤相比紮實，隨著時間和溫度的變化，接合精度的穩(wěn)定性大大提高新趨勢。
- 特殊粘合解決了粘合界面出現(xiàn)間隙的問題可能性更大，不會因吸力或壓力而產(chǎn)生凹痕。
