半導體制造領域

• 光刻工藝：在半導體光刻工藝中的積極性，光刻膠的涂覆均勻性直接影響光刻精度。日本 Taimei 高純度氧化鋁球若用于光刻膠攪拌設備的關鍵部件應用的選擇，其粒度均勻性對光刻膠混合效果有顯著影響十大行動。假設使用粒度均勻性不同的氧化鋁球進行光刻膠攪拌實驗，當氧化鋁球粒度均勻性高時背景下，可使光刻膠在攪拌后，內(nèi)部各成分分布標準差降低至 0.5% 以內(nèi)可靠保障，相較于粒度均勻性差的氧化鋁球自然條件，能讓光刻膠在硅片上的厚度偏差從 ±5nm 降低至 ±2nm，從而提升光刻圖案的分辨率開展，使線寬精度提升 30% 以上互動互補，有效減少因光刻膠不均勻?qū)е碌男酒搪贰嗦返热毕菀庀?，提升芯片良品率至?10%19意料之外。

• 刻蝕工藝：在刻蝕過程中，使用的刻蝕氣體通過含有氧化鋁球的氣體分布裝置形式。粒度均勻的氧化鋁球可使氣體分布更均勻置之不顧，在等離子體刻蝕中，能讓刻蝕速率的均勻性標準差從 3% 降低至 1%足了準備，進而使刻蝕深度偏差從 ±10nm 減小到 ±5nm合作關系，有助于提高刻蝕圖形的垂直度和側壁粗糙度著力提升，提升刻蝕精度，保障芯片復雜結構的精確制造傳遞。

精密光學制造領域

• 光學鏡片研磨：在光學鏡片研磨過程中融合，使用含有 Taimei 高純度氧化鋁球的研磨液。粒度均勻性高的氧化鋁球相關性，能使研磨力更均勻地分布在鏡片表面完成的事情。例如，在對高精度光學鏡片進行研磨時穩定，使用粒度均勻的氧化鋁球改造層面，可使鏡片表面粗糙度從 Ra 0.5nm 降低至 Ra 0.2nm，面形精度 PV 值從 λ/10（λ 為波長）提升至 λ/20效高化，極大地提高了光學鏡片的成像質(zhì)量新體系，降低光線散射和像差，對于相機鏡頭創造、望遠鏡鏡片等產(chǎn)品的成像清晰度和色彩還原度提升明顯不難發現。

• 光學鍍膜：在光學鍍膜工藝中，氧化鋁球用于一些鍍膜設備部件的制造設備製造。其粒度均勻性影響著鍍膜的均勻性發展需要。研究表明，當氧化鋁球粒度均勻時管理，可使薄膜厚度均勻性偏差從 ±3nm 減小到 ±1nm顯示，提升薄膜的光學性能穩(wěn)定性，例如對于增透膜效率和安，可將不同波長光線的透過率波動范圍從 ±2% 縮小至 ±1%設計能力，提高光學元件在不同波段的光學性能一致性。

航空航天零部件制造領域

• 航空發(fā)動機葉片制造：航空發(fā)動機葉片制造過程中深入開展，使用 Taimei 高純度氧化鋁球參與的磨料水射流切割或拋光工藝更為一致。粒度均勻的氧化鋁球，能使磨料水射流的能量分布更均勻技術的開發，在切割葉片復雜型面時研究與應用，可將切割面的表面粗糙度從 Ra 3.2μm 降低至 Ra 1.6μm，尺寸精度從 ±0.1mm 提升至 ±0.05mm更高效，提高葉片的空氣動力學性能積極影響，減少氣流損失，提升發(fā)動機效率約 3% - 5%緊密協作。在葉片拋光過程中越來越重要，可使葉片表面殘余應力分布標準差降低 40%，提高葉片的疲勞壽命，保障發(fā)動機在高負荷運轉下的可靠性像一棵樹。

• 航空航天電子設備封裝：在航空航天電子設備封裝過程中過程中，使用的導熱材料可能含有氧化鋁球。粒度均勻的氧化鋁球可提高導熱材料的導熱均勻性能運用。例如達到，在電子設備運行時，可使設備內(nèi)部溫度分布標準差從 5℃降低至 2℃不可缺少，有效避免因局部過熱導致的電子元件性能下降或損壞蓬勃發展，提高電子設備在環(huán)境下的穩(wěn)定性和可靠性，降低設備故障率至少 20%積極回應。

機械制造領域

• 精密軸承制造：在精密軸承制造中重要性，Taimei 高純度氧化鋁球可作為研磨介質(zhì)對軸承滾道和滾珠進行研磨。粒度均勻的氧化鋁球能使?jié)L道表面的圓度誤差從 ±0.5μm 降低至 ±0.2μm多種場景，滾珠的直徑公差從 ±0.01mm 縮小至 ±0.005mm多元化服務體系，提高軸承的旋轉精度和穩(wěn)定性，降低軸承運轉時的振動和噪聲擴大公共數據，延長軸承使用壽命至少 50%深度，滿足機械設備對高精度、高可靠性軸承的需求核心技術體系。

• 超精密機床制造：在超精密機床的關鍵零部件制造中開拓創新，如導軌、絲桿等必然趨勢，使用含有 Taimei 高純度氧化鋁球的研磨材料進行加工促進善治。粒度均勻的氧化鋁球可使導軌直線度精度從 ±0.01mm/m 提升至 ±0.005mm/m，絲桿螺距精度從 ±0.005mm 提升至 ±0.002mm多樣性，從而提高超精密機床的加工精度發揮效力，使機床加工出的零件尺寸精度和形狀精度得到大幅提升，滿足制造業(yè)對超精密加工的嚴苛要求明顯。