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在半導(dǎo)體和液晶顯示器(LCD/OLED)制造過(guò)程中高質量,精密溫控是影響成膜質(zhì)量、蝕刻精度及器件可靠性的關(guān)鍵因素適應性。日本SHINNETSU(新熱工業(yè))憑借其先進(jìn)的加熱器技術(shù)迎難而上,為高精度半導(dǎo)體和液晶制造設(shè)備提供高效、穩(wěn)定的熱源解決方案激發創作。其產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于化學(xué)氣相沉積(CVD)更高效、物理氣相沉積(PVD)、光刻膠烘烤等核心工藝充分,滿足從成熟制程到先進(jìn)封裝(如2nm以下制程)的嚴(yán)苛需求過程。
SHINNETSU加熱器采用高純度氧化鎂(MgO)絕緣材料與特種合金電阻絲(如鎳鉻或鐵鉻鋁)結(jié)合,確保高熱傳導(dǎo)效率及長(zhǎng)期穩(wěn)定性融合。根據(jù)應(yīng)用場(chǎng)景的不同進一步完善,提供多種結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì):
種子加熱器(Seed Heater):適用于高均勻性加熱,如晶圓級(jí)溫度控制自主研發。
細(xì)徑種子加熱器:用于微區(qū)精準(zhǔn)加熱力度,支持高密度集成工藝。
卡特里奇加熱器(Cartridge Heater):模塊化設(shè)計(jì)意向,便于快速更換與維護(hù)持續發展。
直接接觸式加熱:通過(guò)高絕緣性設(shè)計(jì)(耐壓≥1500V),加熱器可直接作用于半導(dǎo)體晶圓或液晶基板系統性,避免間接傳熱導(dǎo)致的能量損耗合作。
抗電磁干擾(EMI):優(yōu)化電阻絲排布,減少磁場(chǎng)對(duì)敏感工藝(如離子注入)的影響損耗。
耐腐蝕性:采用鈦(Ti)或表面陶瓷涂層勇探新路,耐受等離子體、鹵素氣體(如Cl?形式、F?)及酸性環(huán)境擴大,適用于刻蝕和清洗設(shè)備。
抗氧化與抗震:發(fā)熱體密封結(jié)構(gòu)防止氧化傳遞,機(jī)械強(qiáng)度滿足半導(dǎo)體設(shè)備的高頻振動(dòng)要求(如搬運(yùn)機(jī)器人應(yīng)用)讓人糾結。
溫度均勻性:部分型號(hào)可實(shí)現(xiàn)±0.1℃的控溫精度,確保大面積基板(如G8以上液晶面板)的熱分布一致性發揮效力。
快速響應(yīng):低熱容設(shè)計(jì)縮短升降溫時(shí)間全面革新,提升生產(chǎn)效率。
成膜工藝:CVD/PVD設(shè)備的基板加熱穩定發展,影響薄膜厚度與結(jié)晶質(zhì)量空間廣闊。
熱處理工藝:擴(kuò)散爐、退火爐中的晶圓加熱效果,優(yōu)化摻雜均勻性。
先進(jìn)封裝:3D IC堆疊中的局部微加熱(<100μm區(qū)域),減少熱應(yīng)力導(dǎo)致的翹曲服務水平。
陣列(Array)制程:玻璃基板上的薄膜晶體管(TFT)熱處理線上線下,提升電子遷移率。
蒸鍍與封裝:OLED蒸鍍機(jī)的加熱源能力建設,確保有機(jī)材料均勻沉積知識和技能。
真空設(shè)備:如分子泵、鍍膜機(jī)的配套加熱醒悟。
實(shí)驗(yàn)室儀器:精密恒溫槽進行部署、反應(yīng)釜加熱等。
產(chǎn)品類型 | 核心優(yōu)勢(shì) | 適用工藝 |
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板式加熱器 | 大面積均勻加熱需求,彎曲結(jié)構(gòu)適配復(fù)雜腔體 | 半導(dǎo)體/LCD成膜、光刻后烘烤 |
鈦管護(hù)套加熱器 | 耐腐蝕,適用于液態(tài)或高濕度環(huán)境 | 濕法清洗各方面、化學(xué)液加熱 |
嵌入式微加熱陣列 | 微米級(jí)局部控溫堅定不移,支持多區(qū)域獨(dú)立調(diào)節(jié) | 芯片鍵合、3D封裝局部退火 |
隨著半導(dǎo)體工藝向更小節(jié)點(diǎn)(如GAA晶體管)和三維集成發(fā)展占,對(duì)加熱器的精度與可靠性要求日益嚴(yán)苛技術的開發。SHINNETSU通過(guò)以下技術(shù)持續(xù):
材料創(chuàng)新:開(kāi)發(fā)超低熱膨脹系數(shù)(CTE)復(fù)合材料,匹配硅晶圓的熱變形更讓我明白了。
智能化集成:內(nèi)置溫度傳感器與IoT接口健康發展,實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)監(jiān)控與預(yù)測(cè)性維護(hù)。
SHINNETSU的半導(dǎo)體?液晶用加熱器以高可靠性飛躍、精準(zhǔn)控溫和環(huán)境適應(yīng)性為核心優(yōu)勢(shì)堅實基礎,成為制造設(shè)備的熱管理方案。其技術(shù)不僅滿足當(dāng)前產(chǎn)業(yè)需求最為突出,更通過(guò)持續(xù)研發(fā)推動(dòng)未來(lái)工藝的突破逐步改善,為半導(dǎo)體和顯示行業(yè)的精密制造提供關(guān)鍵支撐。