日本atomax半導體電子零件制造用Atmax噴嘴AM型
精密涂層
由于可以精que地霧化和噴射少量液體，因此可以在半導體和電子元件制造過程中通過噴涂形成薄膜逐步顯現。
與其他噴涂系統相比銘記囑托，噴涂易于控制，設備配置也很簡單傳遞。它的特點是使用一個噴嘴的條件范圍很廣試驗，從厚涂層到薄膜。
精密設備清洗
尖銳的粒度分布使其適用于需要精que度的精que清潔開展攻關合作。與常規(guī)噴嘴相比製度保障，Atmax噴嘴具有霧化所需的壓縮氣體流量低，因此沖擊力小的有效手段，射流流速慢統籌推進。
使用*的液體劑進行涂層工作
有兩個主要組成部分方案。標準噴嘴材料是SUS316L，因為它具有非常簡單的組件結構了解情況，但是可以使用與使用環(huán)境相匹配的材料來制造它深入。另外，在液體接觸部分中不使用O形圈重要的。
使用細顆粒的加工工作
可以容易地連續(xù)注入包含固體的漿液開展研究。為了通過噴霧獲得霧化，從小孔口噴射是通常的理論相互融合，但是Atmax噴嘴能夠霧化大直徑的噴射首要任務。
Atmax噴
Atmax Nozzle AM型能夠精que地噴灑極少量的液體藥劑，并獲得平均粒徑約為5μm的細顆粒不同需求。它是一個非常小的噴嘴發展，可以在20至750瓦的空氣壓縮機中運行。
