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產(chǎn)品型號：
所屬分類：陶瓷材料
產(chǎn)品時間：2025-05-03
簡要描述：日本npc西村陶業(yè)半導體陶瓷/液晶制造設備對于半導體制造設備功能，高剛性，加工精度支撐作用，抗震性積極性，耐熱性，導熱性解決，表面處理精度性能，金屬污染，耐化學藥品性不斷豐富，耐氣體性方案，耐等離子性，絕緣性同時，介電常數(shù)實施體系，介電常數(shù)需要各種特性，例如特性幅度，體積電阻技術創新，低粉塵產(chǎn)生（顆粒）和成本。
日本npc西村陶業(yè)半導體陶瓷/液晶制造設備
對于半導體制造設備各有優勢，高剛性技術發展，加工精度，抗震性資料，耐熱性自動化，導熱性，表面處理精度深入開展，金屬污染更優美，耐化學藥品性需求，耐氣體性，耐等離子性，絕緣性非常激烈，介電常數(shù)提升行動，介電常數(shù)需要各種特性更適合，例如特性，體積電阻交流，低粉塵產(chǎn)生（顆粒）和成本引人註目。
Nishimura Suegyo高純氧化鋁作為陶瓷可以響應上述特性（Al 2 O 3 99.7％或更高，Al 2 O 3 99.9％或更高）溝通協調，氮化鋁（ALN）拓展，氧化釔（Y 2 0 3和*）。
由于其特性活動，高純度氧化鋁可用于運輸臂，晶圓臺，RF高頻傳輸窗口等還不大。它還具有出色的金屬化功能好宣講。
氮化鋁具有優(yōu)異的導熱性，散熱性保障性，耐熱沖擊性和電絕緣性不斷進步，并且具有熱膨脹率接近硅晶片的熱膨脹率的特性。
Itria是一種具有出色耐等離子體性的材料領先水平。
日本npc西村陶業(yè)半導體陶瓷/液晶制造設備
虛擬晶片（ALN /氧化鋁陶瓷）
| 我們制造和銷售高純度ALN（無助劑）和高純度氧化鋁假晶片認為。 尺寸：大12英寸 |
氧化鋯φ0.1小孔管
| 我通過擠壓氧化鋯制成了煙斗。中心有φ0.1孔的管道效率。 |
Belger用于耐等離子CVD的材料N-999S
| 由高純度的99.9％氧化鋁（N-999S）材料制成明確了方向，可抵抗半導體制造設備的等離子體磨損。? |
氧化鋁N-999S管
| 我們用99.9％的氧化鋁（N-999S）制成了幾乎沒有彎曲的管子（尺寸：φ10+ 0 / -0.05 xφ8+ 0.1 / 0 x 350L）意料之外。 將其成型并以0.2mm或更小的翹曲烘烤必然趨勢，而無需拋光內(nèi)徑。 ? |
校正環(huán)（校正板環(huán)）
| 校正環(huán)（校正板環(huán)）這是用于校正Kenma板的板板的環(huán)橋梁作用。由99.7％的氧化鋁制成我們可以根據(jù)您的要求制造尺寸文化價值，形狀和精度。? |
耐等離子陶瓷U型管
| 由99.7％的氧化鋁制成的U形管用作半導體制造設備中的等離子體保護管講故事。? |
耐等離子防護罩
| 西村陶瓷的半透明氧化鋁N-9000NS用作半導體制造設備的耐等離子保護蓋單產提升。? |
耐血漿肘
| 2分割彎頭，由高純度氧化鋁制成基礎，具有耐等離子性日漸深入。 它具有可以組裝的形狀。? |
由高純度氧化鋁N-99（氧化鋁99.7％或更高）制成引領作用，用于半導體制造設備
| 由高純度氧化鋁N-99（氧化鋁99.7％或更高）制成的產(chǎn)品用作半導體制造設備的零件預期。? |
