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日本san-eielectric桌上型紫外線曝光機

日本san-eielectric桌上型紫外線曝光機

產(chǎn)品型號： UVE-251S

所屬分類：紫外線固化

產(chǎn)品時間：2025-05-03

簡要描述：日本san-eielectric桌上型紫外線曝光機UVE-251S
使用從250W到2000W的超高壓汞燈的高性能積分器示範推廣，可以通過準直透鏡用紫外線均勻照射工作表面高效利用。我們有各種各樣的輻照直徑單位優勢領先。我們也可應要求提供各種過濾器。它被廣泛用于電子零件的曝光損耗，例如半導體晶片和晶體振蕩器，掩模對準器的光源長遠所需，各種光學器件和曝光實驗設備形式。

詳細說明：

日本san-eielectric桌上型紫外線曝光機UVE-251S

 

特征
  
 
*的光學設計，實現(xiàn)了高功率和緊湊性非常完善。
高穩(wěn)定性傳遞，長壽命，使用無臭氧燈。
可以根據(jù)應用選擇照射波長范圍相關。
自動化線路的豐富遠程功能取得明顯成效。
完善的防噪音措施。
照射頭可以90°的增量進行更改影響力範圍。
照射角度可根據(jù)目的和用途而改變大力發展。
配備了燈泡弧光監(jiān)視器，更換燈泡時
可以輕松調(diào)節(jié)光軸雙向互動。
  

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用
  
 
●UV粘合應用  用于CD和DVD驅(qū)動器的光學拾取透鏡和電子產(chǎn)品的
　　  粘合
　　集成技術，例如液晶玻璃的粘合和密封

●光致抗蝕劑應用
　　  各種微器件（晶體管，晶體換能器生產效率，引線框架
　　  等）：硅片的曝光光源創新的技術，各種光學實驗

 

使用從250W到2000W的超高壓汞燈的高性能積分器，可以通過準直透鏡用紫外線均勻照射工作表面更合理。我們有各種各樣的輻照直徑單位有序推進。我們也可應要求提供各種過濾器。它被廣泛用于電子零件的曝光顯著，例如半導體晶片和晶體振蕩器深入開展，掩模對準器的光源，各種光學器件和曝光實驗設備需求。

*對于大輸出（2 kW或更大）和大面積（300mmΦ或更大），通過結合高性能積分鏡和高精度準直鏡可以再現(xiàn)均勻的輻射。請聯(lián)xi我們各方面。

 

日本san-eielectric桌上型紫外線曝光機UVE-251S

 

關于紫外線強度

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測量儀器采用UVP-365JW　   　測量波長365nm       單位mW /cm²
  光源單元
UVE-251SUVE-502SUVE-1001SUVE-2001S
照射距離紫外線強度紫外線強度紫外線強度紫外線強度
EL-100 * 1200二十五60110180
EL-125200154070110
EL-160300十二十五4070
EL-2003508203050
EL-220350615二十五40
EL-240350---十18歲35
EL-270350---815二十五
  
* 1.表示每個照射單元的有效照射直徑堅定不移。


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