熱化學(xué)氣相沉積-熱CVD技術(shù)

化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術(shù)。在典型的CVD工藝過程中長效機製，把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并在襯底表面形成需要的薄膜聽得進。由于CVD技術(shù)具有成膜范圍廣深入、重現(xiàn)性好等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛用于多種不同形態(tài)的成膜全技術方案。北方華創(chuàng)微電子憑借十余年的微電子領(lǐng)域工藝設(shè)備開發(fā)經(jīng)驗(yàn)基本情況，先后完成了PECVD、APCVD去突破、LPCVD品質、ALD等設(shè)備的開發(fā)，致力于為集成電路、半導(dǎo)體照明全面協議、微機(jī)電系統(tǒng)、功率半導(dǎo)體堅持先行、化合物半導(dǎo)體講實踐、新能源光伏等領(lǐng)域提供各種類型的CVD設(shè)備，滿足客戶多種制造工藝需求具體而言。

熱CVD設(shè)備型號(hào)：HCVD400-40 / 工作溫度：800℃

套裝內(nèi)容：管式爐最為顯著、控制器、石英爐芯管奮戰不懈、法蘭生產能力、支架、龍門架
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