電子顯微鏡觀察的鋨涂層裝置HPC-20的特點

設(shè)備特點
該裝置是用于電子顯微鏡觀察的鋨涂層裝置。配備觸控面板和排序器控制開放以來，任何人都可以輕松占、全自動地在樣品上形成導(dǎo)電膜高質量。采用空心陰極樣品臺，通過低壓放電進行鍍膜激發創作，幾乎沒有樣品損壞前景。在空心陰極中會產(chǎn)生均勻的高密度等離子體，因此無論樣品的高度和材料如何增幅最大，都可以在放置在圓柱體中的樣品表面形成厚度均勻的 Os 膜共享應用。中空陰極僅注入必要量的鋨氣體，消耗量小研究成果，未反應(yīng)的氣體被活性炭捕集器吸附去除取得了一定進展，從而抑制了有害氣體釋放到大氣中。

用途
用于 SEM 和 TEM 的鋨涂層設(shè)備大面積。由于其精細(xì)的粒徑和出色的包裹性積極參與，它對于高倍率觀察應(yīng)用和復(fù)雜形狀的樣品非常有效。由于超薄的Os導(dǎo)電涂層培養，它也適用于EBSD分析交流研討、俄歇分析和X射線分析。

規(guī)格