可以濺射各種金屬的實驗室沉積裝置MSP-40T介紹

它是一種多功能型號近年來，可以濺射各種金屬，包括流行的鎢發展目標奮鬥。 它用于從表面觀察到實驗應(yīng)用的廣泛領(lǐng)域技術先進。 高純度真空區(qū)域?qū)τ谥苽涞臉悠分陵P(guān)重要。 MSP-40T 能夠因渦輪泵排氣而在真空區(qū)域飛濺延伸。

裝置	特征	目標金屬
	MSP-40T 是一種多用途的實驗室沉積裝置認為。 新型號配備了全自動薄膜沉積功能。 高效的薄膜沉積新趨勢，排氣速度快反應能力，操作簡單。 各種金屬薄膜可以通過強磁場沉積學習。 渦輪泵和隔膜泵可實現(xiàn)清潔和高真空結構重塑。 是一款性價比低廉的設(shè)備。 薄膜沉積靶材：金新的力量、銀先進水平、鉑、金-鈀全面展示、鈀越來越重要的位置、銅、鉻共同學習、鈀順滑地配合、鎳、鐵效高、鎢前沿技術、鉬基礎、鉬、鈦多種方式、鋁對外開放、ITO等 。 對于未列出的目標深入交流研討，請聯(lián)系我們資料。

用于復(fù)雜形狀樣品和超高放大倍率觀察

對于形狀復(fù)雜且超高放大倍率觀察200，000倍或以上的樣品關註度，請考慮具有出色環(huán)繞性和細顆粒的鋨鍍膜機橫向協同。

Os：鋨
由于它被包覆在氣體氣氛中，因此可以很好地包裹樣品敢於挑戰，并且粒徑非常小不斷創新。
主要用于涂覆生物樣品和具有三維結(jié)構(gòu)的樣品。

W：鎢
顆粒體系與鋨相當提供了遵循，但由于薄膜沉積方法的差異參與水平，其環(huán)繞性不如鋨鍍膜機。