可以濺射各種金屬的實驗室沉積裝置MSP-40T介紹

它是一種多功能型號，可以濺射各種金屬組建，包括流行的鎢能力建設。 它用于從表面觀察到實驗應用的廣泛領域全方位。 高純度真空區(qū)域對于制備的樣品至關重要。 MSP-40T 能夠因渦輪泵排氣而在真空區(qū)域飛濺。

裝置	特征	目標金屬
	MSP-40T 是一種多用途的實驗室沉積裝置堅定不移。 新型號配備了全自動薄膜沉積功能。 高效的薄膜沉積，排氣速度快，操作簡單。 各種金屬薄膜可以通過強磁場沉積。 渦輪泵和隔膜泵可實現(xiàn)清潔和高真空融合。 是一款性價比低廉的設備進一步完善。 薄膜沉積靶材：金、銀提升、鉑影響、金-鈀、鈀競爭力、銅製高點項目、鉻、鈀的過程中、鎳物聯與互聯、鐵、鎢範圍和領域、鉬取得了一定進展、鉬、鈦、鋁有所增加、ITO等 。 對于未列出的目標促進進步，請聯(lián)系我們供給。

用于復雜形狀樣品和超高放大倍率觀察

對于形狀復雜且超高放大倍率觀察200，000倍或以上的樣品更高要求，請考慮具有出色環(huán)繞性和細顆粒的鋨鍍膜機積極參與。

Os：鋨
由于它被包覆在氣體氣氛中，因此可以很好地包裹樣品經驗分享，并且粒徑非常小探討。
主要用于涂覆生物樣品和具有三維結構的樣品。

W：鎢
顆粒體系與鋨相當搖籃，但由于薄膜沉積方法的差異持續創新，其環(huán)繞性不如鋨鍍膜機。