STIL 模塊化光學筆“DUO"原理分析

實現(xiàn)更精確的表面形狀測量。 更寬的測量范圍 除了先前型號中使用的
測量方法（“共聚焦色度模式"）外講實踐，還安裝了新的“干涉測量模式"增幅最大。 現(xiàn)在可以支持更精確的表面輪廓測量。 兩種模式都可以根據(jù)所需的測量精度使用最為顯著，從而擴大了應用范圍滿意度。

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控制器可用于共聚焦色度模式和干涉測量模式。 與以前的型號一樣智慧與合力，系統(tǒng)配置易于使用且簡單規定，只需根據(jù)所需的測量精度更換筆式模塊即可。

測量原理（干涉測量模式）

光源發(fā)出的光會反射在測量對象措施、參考板和參考平面上示範推廣。 此時，兩個反射光之間存在光程差。 如圖所示大大縮短，如果將參考板插入待測物體的前面并盡可能靠近，使光程差進入干涉距離開放要求，則兩個反射光之間會發(fā)生干涉高質量。 由于這種干涉的光譜強度是由波長調(diào)制的，因此可以通過軸向顏色校正光學筆進行測量和分析緊密相關，以實現(xiàn)更精確的厚度測量大幅增加。