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部分吸附式真空吸盤(pán)“ANYCHUCK"在各行業(yè)的運(yùn)用
“ANYCHUCK"是一種陶瓷真空吸盤(pán)，利用最小直徑為1μm的超細(xì)孔進展情況，即使是最小和最薄的工件也能牢固重要的作用、安全地吸附和固定。具有局部吸附功能的吸盤(pán)工作臺(tái)可同時(shí)夾持多個(gè)不同形狀和尺寸的工件研究，減少更換真空吸盤(pán)時(shí)的時(shí)間損失探索。加工、檢查和運(yùn)輸?shù)戎貜?fù)性任務(wù)明顯變得更加高效全面協議。
單個(gè)真空吸盤(pán)可以同時(shí)拾取多個(gè)工件相結合，例如一次運(yùn)輸多個(gè)極小的工件或同時(shí)拾取和檢查不同形狀的工件。在傳統(tǒng)的真空吸盤(pán)中影響，1個(gè)工件=1個(gè)吸盤(pán)相關性，如果吸盤(pán)的整個(gè)表面沒(méi)有被覆蓋，就會(huì)發(fā)生漏氣製高點項目。使用ANYCHUCK的必然要求，可以將多個(gè)工件放置在一個(gè)卡盤(pán)上，并可以自由固定在工作臺(tái)上的任何位置物聯與互聯。也可通過(guò)吹氣進(jìn)行漂浮運(yùn)輸狀況。
一件ANYCHUCK可以靈活處理不同尺寸取得了一定進展，例如對(duì)不同直徑和形狀的薄型工件進(jìn)行固定和作業(yè)業務，或者對(duì)不同尺寸的工件進(jìn)行吸附和拋光。這樣就無(wú)需根據(jù)工件尺寸更換真空吸盤(pán)*有所增加。它可以拾取多種材料完善好，包括基板、陶瓷供給、晶圓和薄膜全過程。
*根據(jù)工件材料的不同，合適的多孔材料可能會(huì)有所不同積極參與。我們會(huì)建議最合適的材料優勢領先。
部分吸附性能部分吸附
如果真空吸盤(pán)的整個(gè)表面沒(méi)有被覆蓋經驗分享，就會(huì)發(fā)生漏氣
→每次工件尺寸改變時(shí)都必須更換吸盤(pán)
無(wú)需覆蓋整個(gè)表面即可進(jìn)行吸附的“局部吸附性能"
→ 用一個(gè)卡盤(pán)即可對(duì)應(yīng)不同尺寸的工件
兼容薄膜等薄工件翹曲和光滑
處理薄膜培養、金屬箔等薄材料時(shí)，可以一邊矯正工件的翹曲創造，一邊安全地吸附固定工件使用，擁有處理數(shù)微米的極薄工件的記錄。我們有3個(gè)等級(jí)的真空吸盤(pán)材料可供選擇，您可以根據(jù)工件進(jìn)行選擇能力建設，例如控制
| 工作處理的產(chǎn)品 | 行業(yè)/業(yè)務(wù)類(lèi)型 | 工作/流程細(xì)節(jié) | 任務(wù) | 結(jié)果 | 細(xì)節(jié) |
|---|---|---|---|---|---|
| 金屬箔 | 薄膜印刷 | 在金屬箔上印刷薄膜時(shí)吸附并固定金屬箔。 | 難以吸附金屬箔而不出現(xiàn)凹凸或損壞 | 可以均勻且無(wú)損壞地吸附金屬箔技術創新。 | |
| 電影 | 電影業(yè) | 從滾筒上拉出薄膜醒悟，進(jìn)行切割，翻轉(zhuǎn)卡盤(pán)生產體系，然后將其轉(zhuǎn)移到另一個(gè)卡盤(pán)上新模式。 | 靜電對(duì)策/承受運(yùn)輸過(guò)程中壓力的吸附力 | 開(kāi)發(fā)靜電對(duì)策及薄膜等級(jí)。 | |
| 陶瓷制品 | 電子元件 | 一次輸送多個(gè)小工件并轉(zhuǎn)移至下一道工序 | 如果不能部分吸附高質量，結(jié)構(gòu)就會(huì)變得復(fù)雜應用情況。 | 通過(guò)使用部分吸附級(jí)產(chǎn)品，可以同時(shí)運(yùn)輸多個(gè)物品。 | |
| 電影 | 薄膜印刷 | 將薄膜固定也逐步提升，并將薄膜表面印刷的樹(shù)脂部分剝離。 | 由于薄膜尺寸稀疏能力和水平，需要進(jìn)行局部吸力組織了，以防止薄膜剝離。 | 部分強(qiáng)力吸附薄膜 | |
| 玻璃基板 | 電子元件 | 同時(shí)吸附多個(gè)φ0.1mm玻璃基板并進(jìn)行圖像檢查 | 即使使用傳統(tǒng)的真空吸盤(pán)註入了新的力量，也無(wú)法部分吸附 φ0.1mm 的工件表現。 | 能夠部分吸附至檢查所需的水平 | |
| 晶圓 | 檢驗(yàn)機(jī) | 通過(guò)吸力固定不同直徑和形狀的晶圓并進(jìn)行平面度檢查。 | 如果您有傳統(tǒng)的真空吸盤(pán)說服力，則需要為每種工件形狀制造真空吸盤(pán)的積極性，或者您必須使用多吸盤(pán)類(lèi)型，這會(huì)增加成本作用。 | 一張卡盤(pán)即可吸附固定不同形狀的晶圓重要意義。 |
翹曲校正程度或采取防靜電措施。
傳統(tǒng)的真空吸盤(pán)孔徑較大效率，在處理薄膜、金屬箔等超薄工件時(shí)會(huì)出現(xiàn)變形逐漸顯現、扭曲和劃傷等問(wèn)題十大行動。 ANYCHUCK的孔隙為Φ1μm至5μm重要性，近乎光滑的臺(tái)面保護(hù)工件免受麻煩。最佳孔徑根據(jù)工件的材料而變化體系，因此如果您能使用我們的演示機(jī)進(jìn)行測(cè)試系統穩定性，我們將不勝感激。
