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產(chǎn)品型號(hào): Ultra Apex Mill/UAM
所屬分類:
產(chǎn)品時(shí)間:2025-08-01
簡要描述:日本hiroshimamm納米顆粒分散粉碎微珠磨機(jī)Ultra Apex Mill/UAM 通過采用離心分離機(jī)(世界首c)來分離珠子高效利用,可以使用直徑為15μm至1 mm的珠子的微珠磨機(jī)管理。使用直徑為0.1mm以下的微珠的分散處理還支持對(duì)包含100nm以下的納米尺寸的顆粒例如無機(jī)化合物(陶瓷設計,電子材料,光學(xué)原料等)和顏料的漿料進(jìn)行分散處理改進措施。在我們的珠磨機(jī)中就此掀開,它是用于納米顆粒的q大的分散機(jī),它已經(jīng)制造并
日本hiroshimamm納米顆粒分散粉碎微珠磨機(jī)Ultra Apex Mill/UAM

微珠磨的標(biāo)準(zhǔn)機(jī)高產,用于納米顆粒分散和納米粉碎信息化技術,支持小直徑為15μm的微珠
通過采用離心分離機(jī)(世界首chuang)來分離珠子,可以使用直徑為15μm至1 mm的珠子的微珠磨機(jī)良好。使用直徑為0.1mm以下的微珠的分散處理還支持對(duì)包含100nm以下的納米尺寸的顆粒例如無機(jī)化合物(陶瓷逐步顯現,電子材料,光學(xué)原料等)和顏料的漿料進(jìn)行分散處理顯著。在我們的珠磨機(jī)中快速增長,它是用于納米顆粒的qiang大的分散機(jī),它已經(jīng)制造并銷售了20年占,并進(jìn)行了許多改進(jìn)高質量,并且是適用于一般亞微米至納米級(jí)顆粒分散處理的濕式珠磨機(jī)提供了有力支撐。是。我們?yōu)閷?shí)現(xiàn)氧化鈦前景,鈦酸鋇進一步意見,螯合有機(jī)顏料,液晶涂料等的納米粒子加工做出了貢獻(xiàn)共享應用。
另外生產能力,由于可以使用直徑為0.5至1mm的相對(duì)較大的珠,因此該珠磨機(jī)也可以用于將各種原料從亞微米級(jí)粉碎至納米級(jí)的目的示範推廣。我們還擁有200納米或更短的制藥原料的API粉碎處理的銷售記錄堅持好。
對(duì)于利用離心力的微珠分離裝置的發(fā)明,我們獲得了Monozukuri日本大獎(jiǎng)(經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省大臣獎(jiǎng))和教育大幅增加,文化特性,體育,科學(xué)和技術(shù)大臣表彰科學(xué)獎(jiǎng)發(fā)明部等特點。
1.使用微珠建言直達,可以進(jìn)行亞微米級(jí)至納米級(jí)的粉碎/分散處理!
由于它可以使用小直徑為15μm的微珠將進一步,因此它是可以分散小直徑為20 nm的細(xì)粒漿料的珠磨機(jī)支撐作用。它是具有高處理能力的分散器和具有高分散力的攪拌轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)。
2.更換珠子很容易動力,一臺(tái)機(jī)器可以處理多種類型的漿料同時!
支持直徑范圍從φ15μm到φ1mm的珠子。由于它是離心式珠粒分離器效高性,因此即使使用不同直徑的珠粒模式,也無需進(jìn)行機(jī)械調(diào)整。您可以在短時(shí)間內(nèi)切換處理目標(biāo)提升。這是一種珠磨機(jī)高品質,可以通過一個(gè)單元進(jìn)行預(yù)研磨和分散處理。
3.易于拆卸和維護(hù)/收集漿料支撐能力!
由于它是立式珠磨機(jī)文化價值,因此可以輕松拆卸,并且可以輕松收集殘留在磨機(jī)中的漿料置之不顧。
4.考慮可洗性不斷完善!
還有一些型號(hào)具有更高的去污力,可用于食品方便,化妝品和藥品等具有高衛(wèi)生要求的應(yīng)用基礎上。珠磨機(jī)的角和接縫的形狀和堆積得到了改善,以提高清潔性能應用領域。為了滿足諸如API粉碎之類的高清潔性的需求保持競爭優勢,我們還提供了一系列無需機(jī)械密封的無密封珠磨機(jī)進行培訓。
日本hiroshimamm納米顆粒分散粉碎微珠磨機(jī)Ultra Apex Mill/UAM
可用磁珠直徑
Φ15μm?Φ1毫米
珠粒分離器圓周速度
8m / s-12m / s
| 材料 | 用 | 分布式目的 | 極限粒徑(nm) |
|---|---|---|---|
| 有機(jī)顏料 | 有機(jī)顏料 | 霧化,透明長效機製,粒徑穩(wěn)定 | 15 |
| 噴墨顏料 | 霧化 | 50 | |
| 氧化鋅 | 紫外線護(hù)理化妝品 | 霧化和透明 | 十 |
| 氧化鋁 | 磨料法治力量,填充劑 | 霧化 | 15 |
| 塑料硬涂層 | 硬度增強(qiáng)劑 | 十 | |
| 二氧化硅 | 晶圓拋光材料 | 霧化,粒徑均勻 | 十 |
| 高分子復(fù)合材料 | 增強(qiáng)強(qiáng)度和透明度 | 十 | |
| 伊藤 | 透明電極分享,熱射線吸收膜 | 導(dǎo)電搶抓機遇,透明 | 40 |
| 防反射膜 | |||
| 電池材質(zhì) | 正極材料,負(fù)極材料 | 高產(chǎn)量表示,大容量,高質(zhì)量 | 20?5,000 |
| 隔膜非常激烈,導(dǎo)電助劑 | 霧化 | ||
| 納米銀 | 遮光材料競爭力所在,導(dǎo)電材料 | 改良的遮光性,導(dǎo)電性 | 20-50 |
| 模型 | 容量(L) | 電動(dòng)機(jī)(千瓦) | 總長(米) | 寬(米) | 高度(米) | 大約重量(公斤) |
|---|---|---|---|---|---|---|
| UAM-015 | 0.15 | 2.2 | 0.6 | 0.48 | 0.85 | 100 |
| UAM-05 | 0.5 | 3.7 | 1.10 | 0.65 | 1.40 | 200 |
| UAM-1 | 1個(gè) | 5.5 | 1.10 | 0.80 | 1.75 | 350 |
| UAM-2 | 2 | 7.5 | 1.10 | 0.80 | 2.10 | 450 |
| UAM-5 | 五 | 15 | 1.25 | 0.80 | 2.10 | 550 |
| UAM-10 | 十 | 二十二 | 1.40 | 0.85 | 2.20 | 700 |
| UAM-30 | 30 | 55 | 2.10 | 1.45 | 3.00 | 2700 |
| 產(chǎn)品名稱 | 大綱 | 可用磁珠直徑 |
|---|---|---|
| 頂點(diǎn)磨 | 濕式研磨珠磨機(jī) 立式濕式研磨珠磨機(jī)領域,可有效處理微米至亞微米級(jí)的研磨 | φ0.3毫米?φ5毫米 |
| 超尖磨機(jī) | *yi臺(tái) 微珠磨粉機(jī)納米珠磨粉機(jī)的標(biāo)準(zhǔn)模型溝通機製, 可以使用小直徑為15μm的微珠 粉,它是一種納米粉碎和納米分散的微珠磨粉機(jī)註入新的動力。 | φ15?1毫米 |
| 雙頂點(diǎn)磨 | 濕式微珠研磨機(jī)領先水平, 用于雙軸微珠研磨和納米顆粒分散,特別是用于低損傷的納米顆粒分散 | φ15?1毫米 |
| 寬分離器 Apex Mill | 高流量高粘度珠磨機(jī) 濕式微珠磨機(jī)雙重提升,與使用微珠的高流速和高粘度納米顆粒分散體兼容 | φ15?0.3毫米 |
| Ultra Apex Mill Advance | 超低損傷納米分散機(jī) 高檔超低沖擊納米分散濕法微球磨機(jī) | φ15?0.3毫米 |
| Apex Mill F&M | 用于藥品戰略布局,食品和化妝品的無 密封 珠磨機(jī),適用于粉碎有機(jī)物質(zhì)表現明顯更佳。珠磨機(jī) 省略了機(jī)械密封狀態,以提高清潔性并防止污染, 尤其適用于納米級(jí)制藥 | φ0.1毫米?φ5毫米 |