日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置

產(chǎn)品型號： DC111

所屬分類：

產(chǎn)品時(shí)間：2025-05-03

簡要描述：日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置DC111
設(shè)備是為MEMS器件和各種半導(dǎo)體研究開發(fā)的噴涂機(jī)關註點。
1廣泛認同，支持MEMS器件
2，在不平坦的表面上均勻涂膜厚度
3建強保護，通孔和溝槽填充應(yīng)用
4服務好，配有加熱器內(nèi)置的樣品架。樣品溫度gao可控制在100°C流動性。
5效高化，伺服電機(jī)使用我們的“ Si-servo"，它具有低振動反應能力，低熱量產(chǎn)生和高精度的特點(diǎn)部署安排。
6，特殊規(guī)格也可提供投入力度。

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日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置DC111

設(shè)備是為MEMS器件和各種半導(dǎo)體研究開發(fā)的噴涂機(jī)效果。
 1，支持MEMS器件 
2技術，在不平坦的表面上均勻涂膜厚度 
3改善，通孔和溝槽填充應(yīng)用 
4，配有加熱器內(nèi)置的樣品架結構重塑。樣品溫度gao可控制在100°C推廣開來。 
5，伺服電機(jī)使用我們的“ Si-servo”貢獻法治，它具有低振動密度增加，低熱量產(chǎn)生和高精度的特點(diǎn)。
6相對較高，特殊規(guī)格也可提供信息化。

特征

1.可以進(jìn)行高精度，均勻的膜厚涂布?

使用可以制成微粒的噴嘴現場，即使在常規(guī)旋涂器難以涂覆的區(qū)域，例如基材的傾斜表面開展研究，梯形和直角頂點(diǎn)高質量，也可以形成均勻的膜。
另外力量，可以將內(nèi)嵌的抗蝕劑施加到微調(diào)器難以實(shí)現(xiàn)的空腔可靠，通孔和溝槽結(jié)構(gòu)上。
適用的膜厚從旋轉(zhuǎn)器級薄膜到超厚膜大型。膜厚度可以為1μm至600μm的可能性。（取決于化學(xué)性質(zhì)進一步推進。）

2.可以使用多種化學(xué)溶液

它支持AZ電子材料的AZ-P4000系列，Kayak Microchem Co.的SU8系列，KMPR系列等明確相關要求，
以及苯并環(huán)丁烯樹脂（BCB）和各種聚合物。
也可以使用高粘度化學(xué)品方案。（取決于化學(xué)性質(zhì)特點。）

3.減少化學(xué)藥品的浪費(fèi)

由于它被涂到小的必要表面上，因此不會浪費(fèi)化學(xué)液體統籌發展，例如旋涂品質。
另外，由于注射器被放置在噴霧單元附近慢體驗，因此藥液管線中的廢物少深化涉外。

日本三明電子sanmei三維抗蝕劑涂布裝置DC111

　技術(shù)指標(biāo)　基本規(guī)格

　效用

　外形尺寸和重量